手持式激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（HH-LIBS）EOS 500適合于質(zhì)量控制(QA)、金屬加工和材料可靠性鑒定(PMI)，是廢品回收相關(guān)行業(yè)對耐久性的要求。堅(jiān)固的設(shè)計(jì)確保了EOS 500能夠承受在幾乎所有的環(huán)境下進(jìn)行現(xiàn)場操作，包括潮濕和灰塵的條件。此外，EOS 500有一個獨(dú)特的氣體光學(xué)護(hù)罩，在光學(xué)系統(tǒng)的前面創(chuàng)建了一個連續(xù)的氣體保護(hù)罩，防止灰塵積聚并允許EOS 500在嚴(yán)苛的環(huán)境中運(yùn)作。
手持式激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（HH-LIBS）EOS 500使用專有的低背景激光消融原子發(fā)射光譜1064納米波長激光。傳統(tǒng)LIBS系統(tǒng)一般利用高能、低頻激光等離子體發(fā)生器，導(dǎo)致高背景噪音、尤其是在頻譜的低端。布魯克專有的1064納米激光能夠產(chǎn)生強(qiáng)烈的原子發(fā)射信號，同時(shí)不會產(chǎn)生高背景噪音，因此不再需要復(fù)雜的澆注系統(tǒng)。利用這種獨(dú)特的設(shè)計(jì)，布魯克的 EOS 500可以很容易地在幾秒鐘內(nèi)、分析< 0.1%濃度水平、具有挑戰(zhàn)性的元素，如Si、Mg。
多探頭的設(shè)計(jì)允許EOS 500覆蓋從170納米到720納米的較長波長范圍，同時(shí)在復(fù)雜的金屬鈦基體下，保持杰出的分辨率。這種較長的波長范圍允許檢測元素，如Li、Be、Cs等。此外，廣泛的波長范圍還允許EOS 500選擇更加合適的波長從而獲得更好的準(zhǔn)確性。
布魯克公司說，每種技術(shù)在測量某些元素和某些類型的合金時(shí)都有優(yōu)點(diǎn)。HH-LIBS是非常適合于快速測定低原子序數(shù)元素，如堿金屬和堿土金屬，但未必適合測量高原子序數(shù)元素，如難熔元素；另一方面，HH-XRF是非常適合于測量高原子序數(shù)元素，但可能不會非常適合于測量低原子序數(shù)元素。這使得HH-LIBS成為輕合金的優(yōu)選技術(shù)，如鎂，鋁和鈦的合金，而HH-XRF則是用于測量不銹鋼和高溫合金的優(yōu)良技術(shù)。
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手持式激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（HH-LIBS）優(yōu)勢
HH-LIBS 技術(shù)
不受X-ray法規(guī)顯示
優(yōu)勢測量 Li, Mg, Al, Si
快速識別標(biāo)號Grade ID 和成分分析
準(zhǔn)確Accurate 和可重復(fù)性Repeatable
獨(dú)特靈活的電池設(shè)計(jì)
1節(jié)電池：減輕重量
2 節(jié)電池：連續(xù)工作12小時(shí)
“Hot-swap”熱插拔功能
應(yīng)用包含：
金屬分類和估值
Fingerprint ID指紋識別
材料確認(rèn)鑒定和標(biāo)識 (PMI)
輕元素測量
Li, Be, Mg, Al, Si
定標(biāo)校準(zhǔn):
基于可溯源的標(biāo)樣定標(biāo)
Al, Ti 和 Mg 合金的準(zhǔn)確測量
自動選擇定標(biāo)
測量模式: 含量Assay, 標(biāo)號Grade ID, 指紋標(biāo)識Fingerprint ID
容易識別、單獨(dú)的鋁牌號，如356, 357, 6061, 6063 和 1000
EOS 軟件特點(diǎn):
直觀的圖標(biāo)按鈕
多級用戶登錄賬號管理和用戶識別
板載設(shè)備性能檢測功能
板載突發(fā)模式平均功能
類型標(biāo)準(zhǔn)化
檢測與標(biāo)號識別基于先進(jìn)的化學(xué)計(jì)量學(xué)算法
指紋光譜識別模式（Fingerprint spectral ID mode）
豐富的標(biāo)號庫：
Bruker EOS包含豐富的標(biāo)號庫（400+標(biāo)號定義），涵蓋各種國際標(biāo)準(zhǔn)。用戶可選用的標(biāo)號庫: UNS, DIN 以及其它。 Bruker的Toolbox軟件，允許用戶：
修改已有合金標(biāo)號定義
添加新的合金標(biāo)號
上傳、下載以及在設(shè)備之間共用標(biāo)號庫
使用方便：
EOS 是一款擁有 實(shí)驗(yàn)室級別硬件的手持式HH-LIBS 分析儀。但是，用戶友好的界面設(shè)計(jì)令操作和結(jié)果展示更加直觀明了。數(shù)據(jù)管理和傳輸非常容易使用。Data management and transfer are very easy to use.
直觀的用戶界面—只需點(diǎn)選和測量（ point and shoot）
只需很少的操作訓(xùn)練
各種場合下的樣品識別
報(bào)告生產(chǎn)工具
輕–僅2.4kg，包括電池
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EOS 硬件特點(diǎn):
空氣流光學(xué)保護(hù)技術(shù)Air-Flow Optics ShieldTM:
HH-LIBS 技術(shù), 與其它光學(xué)技術(shù)一樣，為了獲得更準(zhǔn)確的分析結(jié)果，需要讓設(shè)備前端盡量靠近被測樣品表面，它們之間的距離越短越好。激光燒蝕階段產(chǎn)生的粉塵就成為內(nèi)部光學(xué)器件受污染的一個重要來源。隨著時(shí)間的增加，粉塵在光學(xué)器件表面逐漸累積，逐步減弱通過的光。如果沒有及時(shí)清理，將會導(dǎo)致精準(zhǔn)度下降的問題。Bruker的EOS具有的空氣流光學(xué)保護(hù)技術(shù)“Air-Flow Optics Shield”，可以在光學(xué)器件表面形成一個持續(xù)的空氣保護(hù)層，有效阻止粉塵堆積，從而讓EOS保持非常理想的工作狀態(tài)。
光柵掃描 :
由于激光光斑非常小，這樣所獲得數(shù)據(jù)就僅限于非常微小的區(qū)域。EOS的光柵掃描技術(shù)可以讓激光束掃描樣品上較大的區(qū)域。這樣就可以給出更具代表性樣品檢測結(jié)果。
多探測器（多光譜）設(shè)計(jì) :
Bruker多探測器的設(shè)計(jì)使得EOS覆蓋擴(kuò)展波長范圍從170納米到720納米，并保持優(yōu)異的分辨率，尤其對復(fù)雜金屬基體，如鈦。廣泛的波長范圍允許檢測的元素，如Li，Be，Si等，這是一個單一的光譜儀系統(tǒng)無法覆蓋的。此外，廣泛的波長范圍也讓EOS可以利用替代測量波長，避免頻譜重疊從而達(dá)到更好的精度。
環(huán)境條件 :
EOS可以在幾乎所有環(huán)境中現(xiàn)場操作，包括垃圾場這樣的潮濕、多塵的環(huán)境。
獨(dú)特的激光技術(shù) :
布魯克的HH-LIBS分析儀，EOS，使用專有的1064 nm激光低背景激光燒蝕原子發(fā)射光譜。傳統(tǒng)的LIBS系統(tǒng)利用高能量，低重復(fù)頻率的激光來生成等離子體的設(shè)計(jì)。這樣的設(shè)計(jì)會導(dǎo)致一個高背景的“噪音”，特別是在頻譜的較低端部。布魯克的1064 nm激光產(chǎn)生強(qiáng)的原子發(fā)射信號而不產(chǎn)生高背景輻射，因而不需要復(fù)雜的選通系統(tǒng)。利用這一設(shè)計(jì)，布魯克的EOS可以很容易地在幾秒內(nèi)分析挑戰(zhàn)性的元素，如Si、Mg＜0.1%濃度。
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